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 EASYTUBE系列科研CVD設備


First Nano公司是CVD公司的全資子公司,致力于設計、加工各類型科研設備。
目前EasyTube™ 系列設備在衆多領域均有科研應用,諸如納米材料、半導體、應用物理、生物醫學、航天等。其設備主要特點:
1. 全自動程序控制;2. 完備的安全系統;3. 工藝結果重複性高;4. 模塊設計,配備靈活;
典型設備型號如下:

EasyTube 101
特點:

  • 襯底尺寸邊長或直徑1英尺
  • 獨立三溫區電阻絲加熱1100度
  • 4條氣路
  • 自動進出樣

可選配置:

  • 液源
  • 固源
  • 真空系統

典型應用:

  • CNT
  • Graphene
  • Si, SiGe Nanowire
  • Oxide Nanowire

 

 

EasyTube 2000
特點:

  • 襯底尺寸邊長或直徑2英尺
  • 獨立三溫區電阻絲加熱1100度
  • 4-8條氣路
  • 自動進出樣

可選配置:

  • 液源
  • 固源
  • 真空系統
  • 快速降溫功能

典型應用:

  • CNT
  • Graphene
  • Si, SiGe Nanowire
  • Oxide Nanowire
  • Annealing
  • Thin Film

 

EasyTube 3000
特點:

  • 襯底尺寸邊長或直徑4-12英尺
  • 獨立三溫區電阻絲加熱1100度
  • 4-12條氣路
  • 自動進出樣

可選配置:

  • Load lock 預處理腔
  • Hot-Loader 快速降溫裝置
  • Remote 等離子增強
  • 液源
  • 固源
  • 超高真空
  • 紅外加熱及射頻加熱

典型應用:

  • CNT/Graphene
  • Si, SiGe, Oxide, Nitride Nanowire
  • Oxidation, Annealing
  • Thin Film Deposition: Si, SiGe, SiO2, Si3N4

 

EasyTube 4000
特點:

  • 電阻絲加熱或紅外加熱1000 C
  • 石英管反應腔
  • 4條氣路
  • 自動進出樣

典型應用:

  • CNT
  • Si3N4/SiO2
  • a-Si

 

EasyTube 5000
特點:

  • 科研型MOCVD
  • 用于2” or 3” 襯底
  • 每次進樣至多3片
  • Showhead 氣體傳送
  • 襯底旋轉

典型應用:

  • II-VI (ZnO etc)
  • III-V (GaN etc)
  • TMD

 

EasyTube 6000多管爐
特點:

  • 1-4套獨立系統
  • 襯底尺寸4”/6”
  • 每次10 -100片
  • 機械懸臂自動進出樣

典型應用:

  • Dry/Wet Oxidation
  • Diffusion
  • Annealing/Drive in
  • Poly Silicon
  • LPCVD Si3N4
  • LPCVD SiO2