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CVD公司和化學氣相沉積設備

美國CVD Equipment公司(納斯達克上市公司,代碼:CVV)成立于1982年,總部位于紐約長島。主要産品包括化學氣相沉積(CVD),熱處理設備,真空設備,特氣櫃,尾氣處理設備等等。公司具有強大的開發,設計和生産能力,三十幾年來爲全球衆多客戶提供了數千套研發和生産設備,廣泛用于醫學功能材料,航天航空,納米技術,半導體,太陽能等領域。
其子公司First Nano是世界領先的納米材料設備制造商。
公司提供完整Turn-Key方案:氣櫃、主機、尾氣處理設備。

 

Process Demo (工藝展示)

 

 

 

化學氣相滲透多孔钽

銅箔上生長單層石墨烯

鎳基上生長多層石墨烯

 

 

  三維鎳基上生長石墨烯

Mm級單層石墨烯

TMD過渡金屬硫化物

 

 

 

垂直碳納米管陣列

水平碳納米管

批量氮化硅、氧化硅、多晶硅

 

 

 

垂直硅納米線

氧化鋅TCO(high haze)

三維結構上沉積氧化鋅

 

CVD EQUIPMENT CORPORATION中國地區獨家代理:美國彙傑國際公司